参考观研天下发布《2018年中国光刻机行业分析报告-市场深度调研与发展趋势研究》
根据资料显示，2017 年 ASML 在全球半导体光刻设备厂中以 85 % 的市占率稳居龙头，其次是日本厂商尼康（Nikon ) 的 10.3 %，以及佳能 ( Canon ) 的 4.3 %，而 ASML 已经是连续 16 年稳居市场第一。
目前ASML有三大产品线分别为 EUV 光刻机、DUV光刻机和 application products。当中，DUV 光刻机是营运主力且出货量最大，而 EUV 是最具前瞻性的产品，明年开始放量。此外，ASML 也致力于推进 EUV 技术蓝图，并取得重要进展，下一代 NXE:3400C 设备预计于 2019 年下半年开始出货， NXE : 3400C 设备每小时曝光的晶圆数量增加至 155 片。
但行业内人士认为，现在各界最关心的环节是，ASML 供应商失火事件是否会影响到主要大客户在 2019 年 7 纳米相关机台的出货，包括最关键的 EUV 和 DUV 设备。
2018 年台积电的 7 纳米工艺已经得到量产，但是采用非 EUV 技术的版本，而是沿用多重曝光技术（multi-patterning），到了 2019 年第一季，台积电采用 EUV 技术的第二代 7 纳米工艺（N7+）就会开始流片，全面迎战三星采用 EUV 技术的 7 纳米工艺。
由于首家客户是就是海思新一代的麒麟 990 处理器，使得积电第二代 7 纳米工艺备受注目，此次是华为第一款支持 5G 的处理器，而第二代 7 纳米工艺（N7+）可以带来电晶体密度再提升 20 %，功耗降低 10% 的优势，预计第二季可开始生产。
按照这个时程推估，海思新一代的麒麟 990 处理器量产时程，会对上三星采用 EUV 技 术的第一代 7 纳米工艺，但三星主要以支持自己智能手机为主，之前台积电和三星针对究竟是谁先量产 EUV 技术，是互不相让！
另一方面，ASML 在中国的业务比重也是越来越大，今年上半年中国市场占 ASML 营收约 20 %，估计全年平均约可达到 15 % 左右。目前 ASML 在中国的客户有中芯国际、华虹半导体、长江存储、合肥长鑫、英特尔大连厂、SK 海力士西安厂、福建晋华等。
经过许多年的研发和进展，EUV 光刻机的曝光效率大幅提升到可以让客户导入的阶段，采用 EUV 光刻机的芯片终于要放量，2019 年会是半导体产的历史时刻，这次 ASML 供应商失火或许是小风波，但也反应“关键军火”的稀少性，让全球芯片生产成本越来越昂贵、供应商越来越集中，产业链随时都处于极度紧绷的状态！
光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备，技术含量、价值含量极高。光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，因此也具备极高的单台价值量，目前世界上最先进的ASML EUV光刻机单价达到近一亿欧元，可满足7nm制程芯片的生产。
根据报道消息，荷兰光刻机龙头大厂ASML的元件供应商 Prodrive在12月3日被传出发生火灾，对此ASML立刻启动备用供应商的策略调货，2018年出货没有有影响，但2019 年出货是否递延要再评估，
对此有业内分析，如果受影响的是攸关台积电、三星电子（Samsung Electronics）火热大战的EUV光刻机，ASML身为全球唯一的供应商，恐对全球7纳米大战带来不确定因素！根据资料显示，2017 年 ASML 在全球半导体光刻设备厂中以 85 % 的市占率稳居龙头，其次是日本厂商尼康（Nikon ) 的 10.3 %，以及佳能 ( Canon ) 的 4.3 %，而 ASML 已经是连续 16 年稳居市场第一。
目前ASML有三大产品线分别为 EUV 光刻机、DUV光刻机和 application products。当中，DUV 光刻机是营运主力且出货量最大，而 EUV 是最具前瞻性的产品，明年开始放量。此外，ASML 也致力于推进 EUV 技术蓝图，并取得重要进展，下一代 NXE:3400C 设备预计于 2019 年下半年开始出货， NXE : 3400C 设备每小时曝光的晶圆数量增加至 155 片。
但行业内人士认为，现在各界最关心的环节是，ASML 供应商失火事件是否会影响到主要大客户在 2019 年 7 纳米相关机台的出货，包括最关键的 EUV 和 DUV 设备。
2018 年台积电的 7 纳米工艺已经得到量产，但是采用非 EUV 技术的版本，而是沿用多重曝光技术（multi-patterning），到了 2019 年第一季，台积电采用 EUV 技术的第二代 7 纳米工艺（N7+）就会开始流片，全面迎战三星采用 EUV 技术的 7 纳米工艺。
由于首家客户是就是海思新一代的麒麟 990 处理器，使得积电第二代 7 纳米工艺备受注目，此次是华为第一款支持 5G 的处理器，而第二代 7 纳米工艺（N7+）可以带来电晶体密度再提升 20 %，功耗降低 10% 的优势，预计第二季可开始生产。
按照这个时程推估，海思新一代的麒麟 990 处理器量产时程，会对上三星采用 EUV 技 术的第一代 7 纳米工艺，但三星主要以支持自己智能手机为主，之前台积电和三星针对究竟是谁先量产 EUV 技术，是互不相让！
另一方面，ASML 在中国的业务比重也是越来越大，今年上半年中国市场占 ASML 营收约 20 %，估计全年平均约可达到 15 % 左右。目前 ASML 在中国的客户有中芯国际、华虹半导体、长江存储、合肥长鑫、英特尔大连厂、SK 海力士西安厂、福建晋华等。
经过许多年的研发和进展，EUV 光刻机的曝光效率大幅提升到可以让客户导入的阶段，采用 EUV 光刻机的芯片终于要放量，2019 年会是半导体产的历史时刻，这次 ASML 供应商失火或许是小风波，但也反应“关键军火”的稀少性，让全球芯片生产成本越来越昂贵、供应商越来越集中，产业链随时都处于极度紧绷的状态！
光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备，技术含量、价值含量极高。光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，因此也具备极高的单台价值量，目前世界上最先进的ASML EUV光刻机单价达到近一亿欧元，可满足7nm制程芯片的生产。
光刻机工作原理图
资料来源：互联网
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