全球 7纳米 大战 因素 参考观研天下发布《2018年中国光刻机行业分析报告-市场深度调研与发展趋势研究》 &

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ASML供应商Prodrive失火 或对全球7纳米大战带来不确定因素

字体大小: 2018-12-04 13:00  来源:中国报告网

中国报告网提示: 参考观研天下发布《2018年中国光刻机行业分析报告-市场深度调研与发展趋势研究》 &

          参考观研天下发布《2018年中国光刻机行业分析报告-市场深度调研与发展趋势研究

          根据报道消息,荷兰光刻机龙头大厂ASML的元件供应商 Prodrive在12月3日被传出发生火灾,对此ASML立刻启动备用供应商的策略调货,2018年出货没有有影响,但2019 年出货是否递延要再评估,

          对此有业内分析,如果受影响的是攸关台积电、三星电子(Samsung Electronics)火热大战的EUV光刻机,ASML身为全球唯一的供应商,恐对全球7纳米大战带来不确定因素!

          根据资料显示,2017 年 ASML 在全球半导体光刻设备厂中以 85 % 的市占率稳居龙头,其次是日本厂商尼康(Nikon ) 的 10.3 %,以及佳能 ( Canon ) 的 4.3 %,而 ASML 已经是连续 16 年稳居市场第一。

          目前ASML有三大产品线分别为 EUV 光刻机、DUV光刻机和 application products。当中,DUV 光刻机是营运主力且出货量最大,而 EUV 是最具前瞻性的产品,明年开始放量。此外,ASML 也致力于推进 EUV 技术蓝图,并取得重要进展,下一代 NXE:3400C 设备预计于 2019 年下半年开始出货, NXE : 3400C 设备每小时曝光的晶圆数量增加至 155 片。

          但行业内人士认为,现在各界最关心的环节是,ASML 供应商失火事件是否会影响到主要大客户在 2019 年 7 纳米相关机台的出货,包括最关键的 EUV 和 DUV 设备。

          2018 年台积电的 7 纳米工艺已经得到量产,但是采用非 EUV 技术的版本,而是沿用多重曝光技术(multi-patterning),到了 2019 年第一季,台积电采用 EUV 技术的第二代 7 纳米工艺(N7+)就会开始流片,全面迎战三星采用 EUV 技术的 7 纳米工艺。

          由于首家客户是就是海思新一代的麒麟 990 处理器,使得积电第二代 7 纳米工艺备受注目,此次是华为第一款支持 5G 的处理器,而第二代 7 纳米工艺(N7+)可以带来电晶体密度再提升 20 %,功耗降低 10% 的优势,预计第二季可开始生产。

          按照这个时程推估,海思新一代的麒麟 990 处理器量产时程,会对上三星采用 EUV 技 术的第一代 7 纳米工艺,但三星主要以支持自己智能手机为主,之前台积电和三星针对究竟是谁先量产 EUV 技术,是互不相让!

          另一方面,ASML 在中国的业务比重也是越来越大,今年上半年中国市场占 ASML 营收约 20 %,估计全年平均约可达到 15 % 左右。目前 ASML 在中国的客户有中芯国际、华虹半导体、长江存储、合肥长鑫、英特尔大连厂、SK 海力士西安厂、福建晋华等。

          经过许多年的研发和进展,EUV 光刻机的曝光效率大幅提升到可以让客户导入的阶段,采用 EUV 光刻机的芯片终于要放量,2019 年会是半导体产的历史时刻,这次 ASML 供应商失火或许是小风波,但也反应“关键军火”的稀少性,让全球芯片生产成本越来越昂贵、供应商越来越集中,产业链随时都处于极度紧绷的状态!

          光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备,技术含量、价值含量极高。光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术,是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备,因此也具备极高的单台价值量,目前世界上最先进的ASML EUV光刻机单价达到近一亿欧元,可满足7nm制程芯片的生产。

光刻机工作原理图
 

资料来源:互联网

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